二氧化硅(SiO2)蚀刻剂Silox Vapox III
产品名称 Silox Vapox III 产品介绍
SILOX VAPOX III蚀刻剂 Ⅰ. 这一蚀刻剂用来蚀刻硅表面上的沉积氧化物。这些氧化物生长于LPCVD装置。它们和热生长氧化物在很多重要方面极不相同。一方面是它们的蚀刻速度,另一方面是它们的工艺程序。沉积氧化物经常在镀金属的硅基板上用作一个钝化层。Silox Vapox III蚀刻剂设计用来蚀刻镀铝硅板上作为钝化层的沉积氧化物,效果**。这种蚀刻剂液中饱含着铝,从而将其对镀金的基板的浸蚀性降到最低限度。 Ⅱ. 沉积氧化物(Silox Vapox)的蚀刻速率:4000 Å/分,22 °C, Ⅲ. 这一产品中含有: 氟化铵 冰醋酸 铝腐蚀抑制剂 表面活性剂 DI水 用户评论 产品评分 目前评分共0人 产品质量
售后服务
易用性
性价比
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