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二氧化硅(SiO2)蚀刻剂Silox Vapox III
二氧化硅(SiO2)蚀刻剂Silox Vapox III图片
品牌:Transene
包装:4L
产地:美国


产品名称
Silox Vapox III
产品介绍
SILOX VAPOX III蚀刻剂
 
Ⅰ. 这一蚀刻剂用来蚀刻硅表面上的沉积氧化物。这些氧化物生长于LPCVD装置。它们和热生长氧化物在很多重要方面极不相同。一方面是它们的蚀刻速度,另一方面是它们的工艺程序。沉积氧化物经常在镀金属的硅基板上用作一个钝化层。Silox Vapox III蚀刻剂设计用来蚀刻镀铝硅板上作为钝化层的沉积氧化物,效果**。这种蚀刻剂液中饱含着铝,从而将其对镀金的基板的浸蚀性降到最低限度。
 
Ⅱ.  沉积氧化物(Silox Vapox)的蚀刻速率:4000 Å/分,22 °C,
 
Ⅲ. 这一产品中含有:
氟化铵
冰醋酸
铝腐蚀抑制剂
表面活性剂

DI水


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