产品索引第2920页 - 试剂仪器网

NanoIntegris金属性单壁碳纳米管,直径1.2-1.7 nm,长度300 nm-5μm,99%片状	NanoIntegris金属性单壁碳纳米管,直径1.2-1.7 nm,长度300 nm-5μm,95%片状
石墨烯导电浆料(油性),片径:1-5μm	石墨烯导电浆料(水性),片径:1-5μm
低氧高导电石墨烯NMP分散液,片径0.5-3μm,厚度0.3-2nm	NanoIntegris半导体性单壁碳纳米管,直径1.2-1.7 nm,长度300 nm-5μm,99%片状
碳纳米管水性分散液	金纳米星,光学密度0.8-1
金纳米三角片,边长140±25nm,壁厚8±2 nm	中空金纳米壳,直径40-60 nm,壁厚5 nm
大比表面积单壁碳纳米管,直径1-2 nm,长度5-30μm	氨基化单壁碳纳米管(短),直径1-2 nm,长度1-3μm
羧基化单壁碳纳米管(短),直径1-2 nm,长度1-3μm	羟基化单壁碳纳米管(短),直径1-2 nm,长度1-3μm
单壁碳纳米管(短),直径1-2 nm,长度1-3μm	羧基化单壁碳纳米管(长),直径1-2 nm,长度5-30μm
羟基化单壁碳纳米管(长),直径1-2 nm,长度5-30μm	HQ天然单晶石墨,尺寸～1 mm
HQ硒化钒晶体,尺寸～8 mm	HQ硒化钛晶体,尺寸～6-8 mm
HQ硫化钛晶体,尺寸～6-8 mm	HQ硒化钽晶体,尺寸～6-8 mm
HQ硫化钽晶体2H,尺寸～6-8 mm	HQ硫化钽晶体1T,尺寸～6-8 mm
HQ硒化锡晶体,尺寸～8 mm	HQ硫化锡晶体,尺寸～8 mm
HQ硒化铼晶体,尺寸～8 mm	HQ硫化铼晶体,尺寸～8 mm
HQ硫盐矿物晶体,尺寸3-6 mm	HQ硫锡铅矿晶体,尺寸～8 mm
HQ硒化铌晶体,尺寸～8 mm	HQ硫化铌晶体,尺寸～2 mm
HQ碲化钼晶体,尺寸6-10 mm	HQ硒化钼晶体,尺寸6-10 mm
HQ金云母晶体,尺寸～25×25×0.15mm	HQ白云母晶体,尺寸～25×25×0.15mm
HQ硒化铟晶体,尺寸～8 mm	HQ硒化铪晶体,尺寸～8 mm
HQ硫化铪晶体,尺寸6-8 mm	HQ硒化镓晶体,尺寸6-8 mm
HQ硫化镓晶体,尺寸6-8 mm	HQ碲化铋晶体,尺寸6-8 mm
HQ硒化铋晶体,尺寸～8 mm	HQ二碲化钨晶体,尺寸～6-8 mm
HQ二硒化钨晶体,尺寸～6-8 mm	HQ二硫化钨晶体,尺寸～10mm
CVD石墨烯专用铜箔,20×30cm,厚度～25μm	NanoIntegris半导体性单壁碳纳米管溶液,直径1.2-1.4 nm,长度～2μm
超薄石墨纸,厚度～50μm,A4大小	氨基化单壁碳纳米管(长),直径1-2 nm,长度5-30μm
CVD蓝宝石基底单层二硫化钼连续薄膜,8 mm×8 mm,厚度0.6～0.8 nm	CVD氧化硅/硅基底单层二硫化钼连续薄膜,8 mm×8 mm,厚度0.6～0.8 nm
黑磷晶体粉末	PET基底,20cm×30cm,厚度～180μm
超级电容器用新型活性炭,粒度1-10μm(SEM),孔径2.4-3.2 nm	碳纳米管水分散剂
高品质超大长径比银纳米线直径L100,直径100±5 nm,长度100-200μm	膨胀石墨粉
胶体石墨粉,粒径1-10μm	导电炭黑,平均原生粒径30-45nm
石墨化炭黑,粒径100-300μm,60-80目	高导电碳纳米管膜,厚度5-15μm
碳纳米管膜,厚度10-15μm	NanoIntegris半导体性单壁碳管,直径1.2-1.4 nm,长度～2μm
机械剥离氧化铝基底二硒化钨,10 mm×10 mm,单个WSe2面积≥10μm<sup>2</sup>	机械剥离蓝宝石基底二硒化钨,10 mm×10 mm,单个WSe2面积≥10μm<sup>2</sup>
机械剥离氧化硅/硅基底二硒化钨,10 mm×10 mm,单个WSe2面积≥10μm<sup>2</sup>	机械剥离氧化铝基底二硒化钼,10 mm×10 mm,单个MoSe2面积≥10μm<sup>2</sup>
机械剥离蓝宝石基底二硒化钼,10 mm×10 mm,单个MoSe2面积≥10μm<sup>2</sup>	机械剥离氧化硅/硅基底二硒化钼,10 mm×10 mm,单个MoSe2面积≥10μm<sup>2</sup>
机械剥离氧化铝基底二硫化钨,10 mm×10 mm,单个WS2面积≥10μm<sup>2</sup>	机械剥离蓝宝石基底二硫化钨,10 mm×10 mm,单个WS2面积≥10μm<sup>2</sup>
CVD氧化硅/硅基底单层二硒化钨,9 mm×9 mm,WSe2片径20-50μm	CVD蓝宝石基底单层二硫化钨,9 mm×9 mm,WS2片径20-50μm
CVD二氧化硅/硅基底单层二硫化钨,9 mm×9 mm,WS2片径20-50μm	机械剥离氧化硅/硅基底二硫化钨,10 mm×10 mm,单个WS2面积≥10μm<sup>2</sup>
机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼,10 mm×10 mm,单个MoS2面积≥10μm<sup>2</sup>	机械剥离蓝宝石基底单层二硫化钼,10 mm×10 mm,单个MoS2面积≥10μm<sup>2</sup>
CVD氧化硅/硅基底单层二硫化钼,8 mm×6 mm,片径20-50μm,厚度0.6～0.8 nm	薄层二硫化钼粉末,片径:0.2-5μm,厚度1-5nm

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