Model 1061 SEM Mill 离子束切割抛光系统SEM Mill 作为采用尖端技术制造的离子束切割抛光系统,提供可靠、高性能的样品制备能力,能够在最短时间内解决各类扫描电镜制样问题,同时具备紧凑、精确以 及高稳定性的优点。
主要性能特点:
•超宽加速电压范围:100eV到10kV,不同加速电压下,•离子束束斑均保持最细**束斑状态•每支离子枪均配备对应法拉第杯进行离子束直接探测•采用可调
简洁•配备横 截面切割装载及定位工具•配备磁编码器,带有样品测厚 功能,自动匹配**抛光位置,保证***抛光质量和效率•抛光角度范围:0°到 +10°连续可调•具备原位实时观察及记录抛光过程功能•可通过时间或温度自动停止•可选液氮冷台配置,去除热效应对样品的损伤•可选真空或惰性气体转移装置,隔绝样品与水氧接