产品型号

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

产品型号

VTC-600-2HD

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）

2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地

3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀

4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上

5、通风装置：需要

主要特点

1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。

2、可制备多种薄膜，应用广泛。

3、体积小，操作简便。

技术参数

1、电源电压：220V 50Hz

2、功率：<2KW（不含真空泵）

3、极限真空度：9.0×10^-4Pa

4、样品台加热温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度）

5、靶枪数量：2个（可选配其他数量）

6、靶枪冷却方式：水冷

7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）

8、直流溅射功率：500W；射频溅射功率：300W。（靶电源种类可选，可选择两个直流电源，也可选择两个射频电源，或选则一个直流一个射频电源）

9、载样台：Ø140mm，可根据客户需求选配加装偏压功能，以实现更高质量的镀膜。

10、载样台转速：1rpm-20rpm内可调

11、工作气体：Ar等惰性气体

12、进气气路：质量流量计控制2路进气，一路为100SCCM，另一路为200SCCM。

产品规格

1、主机尺寸：500mm×560mm×660mm

2、整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm

3、真空室规格：φ300×300mm

4、重量：160kg

标准配件

1

直流电源控制系统

1套

2

射频电源控制系统

1套

3

膜厚监测仪系统

1套

4

分子泵（德国进口）

1台

5

冷水机

1台

6

冷却水管（Ø6mm）

4根

可选配件

金、铟、银、白金等各种靶材